High NA EUV(高數值孔徑極紫外光微影)把數值孔徑從0.33提高至0.55,帶來更高解析度及成像對比,卻也同時縮小景深與曝光視場,衍生對焦裕度不足、晶片圖形必須拼接兩大難題。ASML(NASDAQ:ASML;Euronext Amsterdam:ASML)High NA EUV產品管理資深副總裁Greet Storms於SEMICON Taiwan ......
High NA EUV(高數值孔徑極紫外光微影)正式跨越研發驗證,邁向高量產製造。ASML(NASDAQ:ASML;Euronext Amsterdam:ASML)High NA EUV產品管理資深副總裁Greet Storms於SEMICON Taiwan 2026指出,EXE:5200B已在AB模式下達到每小時135片晶圓的驗收產能,全球EXE系統累計曝......
AI帶動的半導體投資熱潮持續延燒,全球微影設備龍頭ASML於15日公布2026年第二季財報,不僅營收、毛利率雙雙優於公司原先財測,更釋出對未來數年的擴產計畫。ASML宣布,因AI帶動先進邏輯與記憶體晶片需求持續增長,將於2027年同步擴充Low NA EUV與浸潤式DUV微影設備產能各30%,並評估2028年再進一步增加30%產能,顯示公司看好AI晶片需求將......