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面對美國技術封鎖禁令，儘管中國近年在半導體領域取得一定進展，但在晶片製造能力方面，仍與英特爾、台積電存在明顯差距，甚至曾被艾司摩爾（ASML）執行長ChristopheFouquet評為「落後10到15年」。不過根據外媒報導，中國自主研發的EUV（極紫外光）設備近期取得重大突破。對此，媒體人烏凌翔指出，其它國家研發的技術發表在期刊上終究是別人的，中國自己照做一遍，就算結果不是世界第首創，也是自己掌握的技術，將來不會被境外敵對勢力掐脖子。

中國在美國晶片制裁下積極實現半導體製造自主，而在生產過程最為重要的光刻機發展上，近期傳出有所突破。媒體人烏凌翔在節目《烏鴉笑笑》中提到，中國有一座比較先進的自製光刻機近來已交付中芯（SMIC），推測應是由深圳新凱來所製造出的原型機，不過距離實際的應用，仍有一大段的距離需要克服。

說起蔡司，大家會直接聯想到的是什麼？眼鏡的鏡片？相機的鏡頭？還是跟台積電有著間接關係的蔡司半導體？不管是那個部門，隨便都是年營收上千萬歐元的事業。這次壹哥前往位在德國符騰堡州（Baden-Württemberg）的上科亨（Oberkochen），做了一次相當難得的蔡司總部直擊與相關訪談，跟大家分享蔡司的過去、現在與未來。

美國持續在先進晶片製程上對中國採取嚴格的管制措施，科技力智庫執行長烏凌翔在《烏鴉笑笑》節目中引述外媒WCCFtech報導指出，最新報告顯示，中國自主研發的光刻機（EUV）將於2025年第三季進入試產，並採用新型的LDP光源技術，若中國成功自主研發出光刻機，對於現在的美中科技競爭格局，乃至於整個半導體產業的晶片生產效率、良率都將造成重大的影響。

中國哈爾濱工業大學日前在官方新聞網宣布，「放電等離子體極紫外光刻光源」2個項目獲得獲黑龍江省高校和科研院所職工科技創新成果轉化大賽一等獎，顯示被稱為「曝光機心臟」的極紫外（EUV）光源技術有了突破。對此，媒體人唐湘龍分析，中國看似正努力度過美國的科技打壓封鎖，但是今年有可能用彎道的方式，從跟隨者變成走到前面的人。

根據全球最大半導體設備商艾司摩爾2024年年報顯示，ASML全年銷售收入達283億歐元，其中系統設備銷售達217.69億歐元，中國採購額即占系統設備銷售收入達41%居冠，台灣僅占11%排名第四，亦即中國在2024年快速躍升為ASML的最大客戶。對此，科技達人曲博在網路節目《論政天下》上指出，儘管本土有供應商，但半導體廠首選仍是跟國外進口，因為任何一家晶圓廠，重點在於良率、賺錢，不會想要花時間去培養本土的供應商、慢慢調品質。

艾司摩爾（ASML）是台積電最重要的夥伴，主要因為這家荷蘭公司負責的極紫外光系統，能產出地球上最先進的晶片，一台極紫外光曝光機售價約為3.7億美元，是全球最貴的生產設備之一。

Chevrolet日前在慶祝品牌進入巴西市場100周年的特別活動上宣布全新SparkEUV登場，該車是寶駿YepPlus換標車型，充分利用上汽通用五菱合資企業的資源來降低開發成本。

拜登政府下台前祭出史無前例嚴厲的晶片管制措施，如果川普上台後延續其措施，對全球晶片產業的衝擊與影響也將會是史無前例大，無論那些半導體廠商自我評估的真假對錯，但要不受影響是不可能，即使強如台積電亦無例外，這些措施甚至可能重塑產業與全球貿易體制。

荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾（ASML）原訂16日公布的財報提前在15日晚上外洩，不只財報不如預期，還下修明年業績展望，股價收盤暴跌逾15%，寫下1998年來最大單日跌幅。

摩根士丹利（MorganStanley，俗稱大摩）調降荷蘭半導體設備巨頭ASML的投資評等，主因憂心記憶體晶片市況疲軟，且來自中國晶片製造商和英特爾（Intel）的需求可能降低；ASML先前已相繼遭到瑞銀（UBS）和德銀（DeutscheBank）降評。

美國對中國祭出晶片禁令之際，中國半導體技術傳出有重大突破，中國工信部日前指出，其國產氟化氬（DUV）光刻機可生產8奈以下的晶片，引發外界關注。對此，曾任中芯國際獨立董事、台積電前研發處長的楊光磊認為，中國製作出8奈米絕對有可能，也沒道理做不出來，但良率與功能仍要抱持存疑態度。

中國工業和信息化部公布了一份重大技術裝備推廣目錄，其中包括一項國產「氟化氬光刻機」（DUV光刻機）。這台DUV光刻機的核心技術指標包括：晶圓直徑300mm、照明波長248nm、分辨率≦65nm、套刻≦8nm。中國媒體指出，這意味著中國已可自主生產「8奈米及以下的晶片」。

全球半導體設備大廠艾司摩爾所生產的極紫外光曝光機（EUV）被譽為地表最複雜的機器，該公司歷經10年研發，推出最新一代曝光機（HighNAEUV），造價高達3.8億美元（相當新台幣121.3億元）。而HighNAEUV產品管理副總裁史東斯（GreetStorms）是一位敢於向老闆說不的女性主管，她強調，「在艾司摩爾工作最棒的是，公司鼓勵員工勇於思辯，相互挑戰，找出最佳解決方案。」

荷蘭作為光子技術的領導者，其成功經驗值得全球借鑒。而在追求科技創新的同時，荷蘭也開始關注傳統知識的潛在價值。極紫外光刻技術（EUV）雖然不直接影響AI的訓練或微調，但它能製造出更先進的晶片，從而提升處理器的性能，使其更適合處理複雜的AI任務，包括原住民傳統知識的AI應用。

台海局勢愈發緊張，近期中國動作頻頻，也促使國際關注侵台可能性，不少外媒都曾猜測地緣政治危機升高，對於半導體龍頭「護國神山」台積電的後果，可能就是被美國或台灣自行摧毀；國外卻有分析師認為，北京的目的可能就是想摧毀台積電，藉此重創台灣和南韓的半導體，因為這樣一來，中國晶片才可能崛起，進一步超越美國。

荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）計畫於2030年推出針對1奈米以下製程的Hyper-NA極紫外光機（EUV），然而有韓媒認為，雖然這是半導體產業邁入埃米（angstrom）時代的必要設備，要價多達7.24億美元（折合約237億台幣）以上的高昂生產成本恐怕會讓台積電、三星、英特爾都望而卻步。

中國通訊科技巨頭華為號稱要超越在中國市佔率90%的輝達A100，卻因為美國制裁因素，再加上中芯國際代工的良率極低、設備頻繁故障，導致華為的第二代AI晶片「昇騰910B」難以擴充產能。

荷蘭國寶級公司半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）原本位居幕後且低調，在美中科技戰之下，飽受壓力，未來還能保住全球霸主地位？荷蘭資深記者海英克（MarcHijink）花3年時間深入艾司摩爾無塵室，揭開該公司神秘面紗，他接受《風傳媒》獨家專訪時直言，「美國祭出口管制反而給中國大好機會發展自己的系統，長期而言，艾司摩爾很難保持獨占地位。」

彭博報導，荷蘭半導體生產設備製造商艾司摩爾控股公司（ASML）指出，今年將交付最新型的高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NAEUV）給台積電。